14、在背景圖層上面新建一個(gè)組,用鋼筆勾出下圖所示的選區(qū),給組添加圖層蒙版。

<圖15>
15、在組里新建一個(gè)圖層填充白色,不透明度改為:20%,同樣用到參照,效果如下圖。

<圖16>
16、新建一個(gè)圖層,用鋼筆把底部邊緣的高光部分勾出來,羽化1個(gè)像素后填充白色,不透明度改為:30%,效果如下圖。

<圖17>
17、其它部分的高光制作方法相同,中間的高光需要涂抹工具稍微涂抹一下,同時(shí)要控制好圖層的不透明度。

<圖18>

<圖19>
18、其它高光制作方法相同,過程如圖20 – 22。

<圖20>

<圖21>

<圖22>
19、右側(cè)的球體可以直接復(fù)制左側(cè)的,效果如下圖。

<圖23>
20、在圖層的最上面創(chuàng)建亮度/對(duì)比度調(diào)整圖層,適當(dāng)增加圖片的對(duì)比度,參數(shù)及效果如下圖。
<圖24>

<圖25>
21、把背景圖層隱藏,新建一個(gè)圖層,按Ctrl + Alt + Shift + E 蓋印圖層,不透明度改為:30%,再把背景顯示出來,效果如下圖。
<圖26>

